一、行業(yè)背景：技術(shù)突圍與產(chǎn)業(yè)自主的攻堅(jiān)戰(zhàn)
2025年，中國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模突破280億元，半導(dǎo)體領(lǐng)域占比達(dá)45%，其中ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化率突破20%，EUV光刻膠進(jìn)入中試驗(yàn)證階段。
全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈因光刻膠供應(yīng)中斷導(dǎo)致30%產(chǎn)能閑置的背景下，中國(guó)企業(yè)的技術(shù)突破正重塑產(chǎn)業(yè)格局。
光刻機(jī)與光刻膠作為半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)，其國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程直接影響中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控能力。
二、中報(bào)預(yù)增核心邏輯：技術(shù)突破+市場(chǎng)需求雙輪驅(qū)動(dòng)
根據(jù)2025年A股中報(bào)預(yù)告，光刻機(jī)與光刻膠相關(guān)企業(yè)業(yè)績(jī)預(yù)增主要源于三大動(dòng)力：
國(guó)際市場(chǎng)開拓：全球半導(dǎo)體設(shè)備需求回升，ASML二季度凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)45.2%，預(yù)計(jì)中國(guó)市場(chǎng)營(yíng)收占比超25%。
產(chǎn)品結(jié)構(gòu)優(yōu)化：高端光刻膠（如ArF、EUV）占比提升，推動(dòng)毛利率修復(fù)。例如，上海新陽(yáng)的NTX550系列產(chǎn)品通過(guò)中芯國(guó)際14納米工藝認(rèn)證，缺陷密度控制在0.08個(gè)/cm2以下。
降本增效：通過(guò)技術(shù)改造、產(chǎn)線優(yōu)化降低單位成本。例如，廣大特材風(fēng)電齒輪箱零部件項(xiàng)目產(chǎn)能釋放，訂單放量帶動(dòng)毛利率提升。
三、2025年中報(bào)預(yù)增TOP10公司名單與核心亮點(diǎn)
1.珂瑪科技（先進(jìn)陶瓷材料龍頭）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)1.65億-1.75億元，同比增18.5%-25.7%。
核心優(yōu)勢(shì)：覆蓋半導(dǎo)體光刻機(jī)前道工序，為上海微電子提供核心陶瓷零部件，耐磨損、耐高溫特性顯著。國(guó)產(chǎn)替代潛力大，覆蓋深紫外DUV到極紫外EUV全譜段光學(xué)器件。
2. 晶方科技（光學(xué)涂層技術(shù)領(lǐng)先）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)1.5億-1.75億元，同比增36%-58.9%。
核心優(yōu)勢(shì)：子公司ANTERYON為ASML提供光刻機(jī)光學(xué)涂層，WLCSP技術(shù)市占率全球前三。車規(guī)級(jí)CIS需求激增，驅(qū)動(dòng)業(yè)績(jī)高增長(zhǎng)。
3.江豐電子（超高純金屬靶材龍頭）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)2.47億-2.67億元，同比增53.2%-65.7%。
核心優(yōu)勢(shì)：靶材是光刻工藝關(guān)鍵材料，產(chǎn)品通過(guò)臺(tái)積電、中芯國(guó)際認(rèn)證，技術(shù)打破國(guó)外壟斷。營(yíng)收同比增長(zhǎng)約29%，受益于全球AI芯片需求爆發(fā)。
4.凱美特氣（光刻氣認(rèn)證唯一國(guó)內(nèi)廠商）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)4500萬(wàn)-6300萬(wàn)元，同比扭虧為盈。
核心優(yōu)勢(shì)：光刻氣通過(guò)ASML子公司Cymer認(rèn)證，純度達(dá)7N級(jí)，用于光刻機(jī)激光激發(fā)。國(guó)內(nèi)唯一進(jìn)入ASML供應(yīng)鏈的氣體廠商，銷量提升疊加費(fèi)用減少。
5.海立股份（光刻機(jī)冷卻系統(tǒng)供應(yīng)商）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)3050萬(wàn)-3600萬(wàn)元，同比增625%-756%。
核心優(yōu)勢(shì)：子公司海立特冷為上海微電子封裝光刻機(jī)提供冷卻系統(tǒng)，制冷技術(shù)國(guó)內(nèi)領(lǐng)先。基數(shù)較低疊加銷售提升，業(yè)績(jī)彈性顯著。
6.彤程新材（光刻膠樹脂國(guó)產(chǎn)化先鋒）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)4.91億-5.13億元，同比增48%-54.8%。
核心優(yōu)勢(shì)：量產(chǎn)光刻膠用線性酚醛樹脂，雜質(zhì)控制達(dá)PPB級(jí)，適配KrF/ArF光刻膠生產(chǎn)。ArF光刻膠通過(guò)14nm驗(yàn)證，毛利率達(dá)65%。
7.南大光電（KrF光刻膠市場(chǎng)主導(dǎo)者）
中報(bào)預(yù)增：未直接披露，但行業(yè)地位顯著。
核心優(yōu)勢(shì)：實(shí)現(xiàn)KrF光刻膠樹脂國(guó)產(chǎn)化，市場(chǎng)占有率達(dá)30%。布局20余款KrF/ArF光刻膠，適配14nm以上制程。
8.芯源微（涂膠顯影設(shè)備國(guó)產(chǎn)替代）
中報(bào)預(yù)增：未直接披露，但設(shè)備市場(chǎng)占有率提升至25%。
核心優(yōu)勢(shì)：國(guó)產(chǎn)涂膠顯影設(shè)備匹配28nm工藝，價(jià)格僅為進(jìn)口設(shè)備的60%。與中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)建立聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，設(shè)備故障率降至3%以下。
9.久日新材（光刻膠溶劑與光敏劑）
中報(bào)預(yù)增：凈利潤(rùn)2億-2.4億元，同比增38.8%-66.6%。
核心優(yōu)勢(shì)：子公司大晶信息生產(chǎn)光刻機(jī)溶劑和光敏劑，技術(shù)突破支撐材料供應(yīng)。參投光刻膠研發(fā)企業(yè)李碩科技，技術(shù)協(xié)同性強(qiáng)。
10.華懋科技（光刻膠定制化服務(wù)）
中報(bào)預(yù)增：未直接披露，但細(xì)分領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)突出。
核心優(yōu)勢(shì)：與合肥長(zhǎng)鑫簽署5年獨(dú)家供應(yīng)協(xié)議，聚焦高端光刻膠定制化服務(wù)。生物基溶劑占比提升至18%，推動(dòng)成本下降。
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